ТН-ФУНДАМЕНТ Протект Барьер
Добавить к сравнению
Поделиться:
-
1
-
2
-
3
-
4
-
5Дренажная труба
-
6Пленка полиэтиленовая ТехноНИКОЛЬ 200 мкм
-
7Защитная ц/п стяжка
-
8
-
9Утепленная отмостка ТЕХНОНИКОЛЬ
Альтернативные материалы
Описание системы:
В качестве гидроизоляционного материала применяются полимерная мембрана LOGICBASE V-SL с сигнальным слоем, изготовленная на основе пластифицированного поливинилхлорида (ПВХ). Скрепление полотен гидроизоляционной мембраны осуществляется путем сварки нахлестов горячим воздухом при помощи автоматического сварочного оборудования с образованием двойного шва и центрального воздушного канала, который позволяет контролировать герметичность швов. В качестве защитного и разделительного слоя в системе используется геотекстиль с поверхностной плотностью 500 г/м2. На горизонтальной части фундамента дополнительно предусмотрены защитные слои из полиэтиленовой плёнки и цементно-песчаной стяжки.
В качестве теплоизоляционного слоя цокольной части здания используется экструзионный пенополистирол ТЕХНОНИКОЛЬ CARBON PROF.
Организация пристенного дренажа, выполненного из профилированной мембраны PLANTER Geo и соединенного с кольцевой дреной, позволяет эффективно отводить воду от сооружения.
Для герметизации технологических швов бетонирования в местах сопряжения плиты и стены фундамента применятся специальная ПВХ Гидрошпонка ТехноНИКОЛЬ IC-125-2-SP.
Особенности системы:
- высокая прочность сварных швов;
- высокая скорость монтажа за счет технологии свободной укладки однослойной мембраны;
- надежный монтаж с применением специального оборудования.
Область применения:
Система применяется для защиты подземных и заглубленных сооружений с техническим этажом или неэксплуатируемыми помещениями, возводимых в котлованах с откосами, в местных глинистых и суглинистых грунтах независимо от уровня подземных вод, а также в песчаных грунтах при уровне подземных вод выше уровня фундаментной плиты.
Производство работ:
Согласно «Инструкции по устройству гидроизоляционной системы фундамента на основе ПВХ мембран LOGICBASE V-SL», Москва, 2020 г.
